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2026-02-12 16:46
irm1911567：董秘你好，请问截止2月10日股东人数是多少？
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
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2026-02-12 16:46
irm1856561：请问2月10日的股东人数多少，谢谢
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
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2026-02-12 16:46
irm1964309：您好，截止到2月10日收盘公司的股东人数是多少？谢谢！
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
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2026-02-11 08:41
irm1347477：截止到2.10日股东数？
国林科技：尊敬的投资者，您好。最近一期股东名册为2026年1月30日，截至2026年1月30日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,647人。感谢您的关注。
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2026-02-03 15:00
irm1347477：截止到1.31日的股东数？
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2026年1月30日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,647人。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:38
cninfo1168043：公司目前半导体清洗设备前景怎么样？目前在手订单如何？是否会受益于现在半导体的发展？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司通过不断探索臭氧技术在半导体行业的应用，已经研发出专用的“臭氧产生、溶解、检测分解”相关全系列核心部件与臭氧装备，能够为半导体、光伏、面板等行业提供超纯高浓度臭氧气体设备及机能水设备。未来，公司将继续紧跟行业需求，以客户需求为导向，提供臭氧应用系统解决方案，为半导体设备国产化发展做出贡献。公司具体经营情况请关注定期报告。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:37
irm1347477：公司臭氧设备在半导体洁净室、生产车间及产线半导体设备上的洁净消毒上的作用是什么？
国林科技：尊敬的投资者，您好。臭氧水具有高氧化性，同时兼具清洁效率和环保特性，能够满足各类场合中臭氧杀菌消毒的需求。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:36
irm1573149：您好，国家大力发展芯片半导体国产替代，很多芯片类型公司陆续上市，扩产，涨价，设备需求大增，请问子公司的国林半导体产品能满足芯片半导体制造的哪些环节？谢谢
国林科技：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
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2026-01-21 08:36
irm1347477：公司的半导体臭氧设备产生的臭氧能否在3D NAND存储芯片结构中形成纳米级均匀氧化层？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。
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2026-01-09 16:12
irm1347477：公司12.20股东数？
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2025年12月19日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计22,517人。感谢您的关注。
