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2025-12-17 08:47
irm1347477：请问目前ald的两种路径，一种是水蒸气作为氧源，一种是臭氧作为氧源，均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取的臭氧路径相较于水蒸气，有何优势？
国林科技：尊敬的投资者，您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于：薄膜纯度更高、杂质更少，致密度与均匀性更佳；低温适配性强，能渗透复杂 3D 结构，且反应副产物无污染，可提升器件性能与生产效率，适配先进制程需求。感谢您的关注。
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2025-12-17 08:46
irm1347477：公司的半导体设备是直接被存储芯片制造商购买，然后直接在存储芯片产线上使用吗？
国林科技：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司所生产的半导体专用臭氧气体设备及机能水设备等产品，主要为设备商提供配套服务，与主机设备一同供应至终端客户。目前，该部分业务占公司主营业务收入的比重较低。感谢您的关注。
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2025-12-17 08:45
irm1347477：请问公司在存储芯片领域的业务，是存储芯片制造商直接采购贵司的产品设备用以制造生产存储芯片？还是贵司先给北方华创、盛美上海等这样的半导体设备厂商提供零部件设备，再由他们集成设备销售给存储芯片制造商使用？
国林科技：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司所生产的半导体专用臭氧气体设备及机能水设备等产品，主要为设备商提供配套服务，与主机设备一同供应至终端客户。目前，该部分业务占公司主营业务收入的比重较低。感谢您的关注。
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2025-12-17 08:40
irm1347477：原子级制造目前主流的技术为原子层刻蚀ale和原子层沉积ald，而臭氧在ale和ald中均发挥了重要作用。公司作为国内半导体臭氧设备的领先企业，能否分别介绍一下臭氧在原子层刻蚀ale和原子层沉积ald的技术原理有何不同？
国林科技：尊敬的投资者，您好。二者核心差异是作用相反，且均依托自限性循环：臭氧在 ALD 中作氧前驱体，与 TMA 等反应沉积单原子层氧化物薄膜；在 ALE 中作氧化剂，氧化基底表面原子后剥离，实现单原子层刻蚀。感谢您的关注。
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2025-12-15 16:42
irm1347477：公司12.10日股东数？
国林科技：尊敬的投资者，您好。截至2025年12月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计23,387人。感谢您的关注。
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2025-12-05 16:53
irm1347477：公司的半导体臭氧水设备和机能水设备是否已经通过验证？正式进入批量供货阶段。
国林科技：尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。
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2025-12-05 16:51
irm1347477：目前公司在存储芯片专用薄膜沉积与清洗设备上取得了哪些进展？
国林科技：尊敬的投资者，您好。国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备目前对接客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。
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2025-12-05 16:51
irm1347477：公司参与了商业航天火箭推进剂废水处理吗？有何技术亮点？目前国内商业航天客户对公司的推进剂废水处理技术需求情况如何？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
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2025-12-05 16:51
cninfo695562：乙醛酸，市场价格如何，公司毛利率多少
国林科技：尊敬的投资者，您好。乙醛酸价格随市场供需变化、原材料采购成本、客户订单量等情况产生波动；根据公司2025年半年度报告披露，公司乙醛酸及其副产品毛利率-0.98%，公司将继续努力拓宽化工领域产品销售市场，提升产品市场竞争力。感谢您的关注。
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2025-12-05 16:48
irm1347477：公司臭氧产品技术是否参有助力中国航天事业发展？为中国航天事业做了哪些贡献？
国林科技：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
