国产光刻胶通过量产验证
来源:证券时报网2024-10-15 17:01

证券时报e公司讯,据“中国光谷”公众号消息,近日,光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司(简称“太紫微公司”)推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610,T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm,且工艺宽容度更大,稳定性更高,坚膜后烘留膜率优秀,其对后道刻蚀工艺表现更为友好,通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异。太紫微公司成立于2024年5月,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

责任编辑: 李在山
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