拓荆科技(688072)2月27日晚披露2024年度业绩快报，2024年度公司实现营业收入41.03亿元，同比增长51.7%；实现净利润6.88亿元，同比增长3.91%；扣非净利润3.56亿元，同比增长14.2%。

拓荆科技是国内量产型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。拓荆科技目前已经形成半导体薄膜沉积设备和混合键合设备两个产品系列。拓荆科技聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。 

得益于拓荆科技不断加大力度推进产品研发及产业化，公司成熟产品的核心技术及关键性能指标均已达到国际同类设备先进水平，并在客户端广泛应用。2021年至2023年，拓荆科技研发投入分别为2.88亿元、3.79亿元和5.76亿元，研发投入在营业收入中的占比分别为38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度，拓荆科技研发投入4.81亿元，同比增长35.73%。

从影响拓荆科技2024年经营业绩的主要因素看，面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇，公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业，继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化，凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大，持续获得客户订单，公司业务规模快速增长。

另外，拓荆科技始终持续保持高强度的研发投入，坚持自主创新，在推进新产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果，包括Flowable CVD设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVDSTI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入，实现了产业化。同时，新型设备平台PF-300M、PF-300T Plus及新型反应腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工艺设备持续获得客户重复订单，实现大批量出货，进一步提升了公司产品性能及核心竞争力。

2024年度，拓荆科技出货超过1000个设备反应腔，创公司历史年度新高。

拓荆科技此前曾表示，随着公司先进产品陆续推出，公司业务规模逐步扩大，产品布局逐渐完善，客户认可度持续攀升，产品已成功应用于行业领先集成电路制造企业产线，设备出货量大幅增加。

谈及2024年营业收入同比增长51.7%的原因，拓荆科技表示，主要系市场需求持续增长，公司新产品及新工艺订单陆续实现收入转化，营业收入持续高速增长。