光刻胶概念16日盘中大幅拉升，截至发稿，晶瑞电材、怡达股份20%涨停，容大感光涨超10%，国风新材涨停，双乐股份涨近9%，强力新材、南大光电涨超6%。

消息面上，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破，武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

机构表示，随着全球半导体制程向着更先进、更精细化方向发展，驱动了半导体制造对光刻胶的需求增长在KrF光刻胶方面，随着3D NAND堆叠层数迅速增加，对光刻胶的使用量将大幅提升。预计至2024年底，我国将建立32座大型晶圆厂，且全部锁定成熟制程，光刻胶总体需求量增速将快速复苏。

校对：彭其华